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技術文章
TECHNICAL ARTICLES在半導體芯片制造、MEMS器件加工及光學薄膜研發中，微米級甚至納米級的臺階高度直接決定器件性能。澤攸臺階儀憑借高精度非接觸測量、自動化數據分析與多場景適配，成為微納結構表征的“黃金工具”。其核心技術融合了光學干涉、精密運動控制與智能算法，將臺階高度測量精度推向亞納米級，為微納制造提供從研發到量產的全流程質量保障。一、光學干涉核心：納米級測量的“光影密碼”1.白光干涉技術①采用寬帶LED光源，通過邁克爾遜干涉儀生成等厚干涉條紋，利用垂直掃描干涉（VSI）模式實現大范圍（10μm...
氮摻雜石墨烯（N-dopedgraphene）作為無金屬催化劑及金屬納米顆粒載體，在電催化、光催化和環境凈化領域展現出顯著的應用潛力。其*特的電子結構與表面性質源于氮原子的引入，尤其在氧還原反應（ORR）等電化學過程中，性能提升效**著。目前，三聚氰胺（melamine）因高達66.7%的氮含量成為常用氮源，而熱處理技術是制備該材料的主流方法。此外，石墨相氮化碳（g-C?N?）作為半導體材料，因化學穩定性高，在光催化水分解和有機合成中備受關注。若將其與還原氧化石墨烯（rGO）...
一、技術核心優勢亞埃級分辨率：突破光學極限，直接解析原子排列與晶格點陣結構。多維度分析能力：融合成像、電子衍射及能譜分析（EDS/EELS），實現微觀結構與成分的協同表征。體相觀測特性：穿透材料表層，揭示內部三維微觀組織特征。二、金屬材料研究中的關鍵應用場景（1）微觀組織結構表征晶粒與晶界分析：定量測定晶粒尺寸分布、取向差及形貌特征，解析晶界類型（孿晶界、小角度晶界等）及偏析行為。位錯體系研究：識別刃型、螺型位錯及混合組態，分析位錯密度、滑移路徑與纏結機制，為塑性變形理論提供...
在材料表征、失效分析及生物醫學成像領域，澤攸臺式掃描電鏡憑借緊湊體積、操作便捷與高性價比，成為實驗室與工業現場的“納米級觀察站”。相較于傳統大型SEM，其結構通過模塊化設計與智能集成，在保持分辨率（≤10nm）的同時，將占地面積縮小至0.5m2以內。本文從“真空-光學-探測-控制”四大系統拆解其技術架構。一、真空系統：納米世界的“空氣凈化器”1.三級真空梯度機械泵預抽：旋片泵（抽速4L/s）將腔體氣壓從10?Pa降至10?1Pa，清除水蒸氣與大顆粒污染物；分子泵精抽：渦輪分子...
微生物學研究依賴顯微鏡觀察細胞形態、動態過程及分子相互作用。奧林巴斯顯微鏡憑借其高分辨率、多模式成像及穩定性，成為微生物檢測、病原分析、細胞行為研究的核心工具。本文結合應用場景與操作細節，提供系統化解決方案。一、奧林巴斯顯微鏡在微生物學中的核心應用病原微生物鑒定應用場景：臨床微生物檢測(如細菌、真菌、寄生蟲鑒定)。技術手段：明場/暗場顯微鏡：觀察細菌形態(如球菌、桿菌)、運動性(如霍亂弧菌“穿梭運動”)。相差顯微鏡：無需染色即可觀察活菌透明結構(如酵母菌出芽生殖)。熒光顯微鏡...
微透鏡加工技術與三維形貌測量分析一、微透鏡主流加工技術1、光刻與刻蝕法通過光刻工藝將透鏡圖案轉移至襯底材料，憑借亞微米級加工精度，適用于大規模微透鏡陣列的批量制造。2、模壓成型法先加工高精度模具，再通過注塑或熱壓成型工藝，實現微透鏡陣列的高效復制，具備工藝穩定性強的特點。3、雙光子聚合技術利用飛秒激光在光敏材料中逐層固化，直接構建三維微透鏡結構，可實現納米級精度的復雜形貌加工。4、熱回流法通過光刻膠曝光顯影形成柱狀陣列結構，加熱至材料玻璃態轉變溫度以上使其軟化，借助表面張力作...
1掃描電子顯微鏡｜SEM掃描電子顯微鏡的運行依托特定原理。電子槍發射出直徑50微米的電子束，在加速電壓助力下，經磁透鏡系統匯聚，變為直徑僅5納米的電子束，并聚焦于樣品表面。隨后，在第二聚光鏡與物鏡間偏轉線圈作用下，電子束在樣品表面呈光柵狀掃描。與此同時，設備同步探測入射電子與樣品相互作用后，從樣品表面散射出的電子和光子，以此獲取材料的表面形貌與成分信息。其中，從材料表面散射出的二次電子能量普遍低于50電子伏特，多數在2-3電子伏特左右。由于二次電子能量低，只有樣品表層產生的二...
在材料研究與構件失效分析領域，掃描電子顯微鏡（SEM）憑借其遠超光學顯微鏡的微觀表征能力，成為解析金屬斷口特征的核心技術手段。通過高分辨率成像與景深優勢，SEM可揭示以下關鍵信息：一、斷裂模式的微觀識別1.韌性斷裂典型特征為韌窩結構，SEM可清晰分辨韌窩形態（等軸狀、剪切型）、尺寸參數（直徑、深度）及空間分布密度。其中，韌窩的大小與深度直接關聯材料塑性變形能力——較大且深的韌窩通常對應優異的延展性。2.脆性斷裂解理斷裂：呈現解理臺階與河流花樣，后者的流向指示局部裂紋擴展路徑，...